何青原
姓名 | 何青原 (Ching-Yuan Ho) | |
組別 | 機械製造與材料組 | |
教授室 | 91716室 | |
分機 | 62165 | |
傳真機 | ||
電子信箱 | cyho@gs.ncku.edu.tw | |
個人網站 | ||
學歷 |
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經歷 |
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專長 |
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教師研究介紹 |
服務 |
榮譽 |
1. 工業技術研究院九十四年研究金牌獎,“高密度與低耗能磁性記憶體研究開發”. 2. 2016台北國際發明暨技術交易展,專利發明銅牌. |
專利 |
中華民國專利 Patents [1] 何青原, 林錫堅, 蕭國坤, “介電層的製造方法” 中華民國專利I304231號. [2] 何青原, 林錫堅, 蕭國坤, “浮置閘極與非揮發性記憶體的製造方法,” 中華民國專利I296837號. [3] 李亨元, 何青原, 李隆盛, 梁虔碩, “空心柱型電容器及其製造方法,” 中華民國專利I297931號. [4] 何青原, “可降低位元線電流之磁性隨機存取記憶體及其製造方法,” 中華民國專利I266413號. [5] 葉進男, 簡廷憲, 何青原, 尤崇茵,“彩色濾光基板及其製造方法,” 中華民國專利 I260431號. [6] 何青原, 侯上勇, “插塞的製造方法,”中華民國專利 412853號. [7] 何青原, “金屬插塞的製造方法,” 中華民國專利386297號. [8] 何青原, “接觸窗開口的製造方法,” 中華民國專利365699號. [9] 何青原, “金屬插塞的製造方法,” 中華民國專利365700號. [10] 何青原, “金屬層間介電層的結構與製造方法,” 中華民國專利365052號. [11] 何青原, “形成淺溝渠的方法” 中華民國專利350122號. [12] 何青原, “淺溝渠隔離製程中的頂角圓化方法” 中華民國專利328162號. [13] 何青原,陳永祥,”半導體裝置之製造方法” 中華民國專利I312152號. [14] 何青原, 卓志臣, “光阻層的重工方法與圖案化製程,中華民國專利200845117號 [15] 何青原, 蕭國坤, “淺溝渠隔離結構及浮置閘極的製作方法, 中華民國專利200837895號 [16] 何青原, 蕭國坤, “浮置閘極的製造方法及記憶體的製造方法”, 中華民國專利200822373號 [17] 何青原, 蕭國坤, “記憶體的製造方法及半導體元件的製造方法”, 中華民國專利200816392號 [18] 何青原, 蕭國坤, “浮置閘極的製造方法與非揮發性記憶體的製造方法”, 中華民國專利200814165號 [19]何青原, 蕭國坤, “高耦合比之非揮發性記憶體的製造方法”,中華民國專利200812009號 [20]何青原, 蕭國坤, “隔離結構的製造方法”, 中華民國專利200805559號 [21]何青原, 陳永祥, “半導體裝置之製造方法、磁性記憶體之製造方法及其磁性記憶體”, 中華民國專利200727293號 [22]何青原, 連振炘, “降低源極汲極片電阻之半導體裝置製造方法”, 中華民國專利200725707號 [23]何青原, 魏鴻基,畢嘉慧,卓志臣”非揮發性記憶體的製造方法”, 中華民國專利200913167號 [24]何青原,”浮置閘極的製造方法”, 中華民國專利200913168號 [25] 何青原, 劉應勵, ”快閃記憶體及其製造方法”, 中華民國專利200929528號 [26] 何青原, 藤田博丈,江柏叡,”元件的製造方法”,中華民國專利201010013號 [27]何青原,李昌駿, “金屬凸塊之形成方法",中華民國發明第I521622 美國專利 [1] Ho, Ching-Yuan, Lien, Chen-Hsin, “Method for fabricating semiconductor device to lower source/drain sheet resistance”, USA patent #7,465,664 [2] Lee, Heng-Yuan, Ho, Ching-Yuan, Lee, Lurng-Shehng, Liang, Chieh-Shuo, “Method of fabricating a cylindrical capacitor”, USA patent #7,332,393., [3]Ho, Ching-Yuan, “Method for manufacturing interconnecting plug”, USA patent #6,146,995. [4] Ho, Ching-Yuan, Hou, Shang-Yun, “Method for manufacturing interconnection plug”, USA patent #5,981,386. [5] Ho, Michael, “Trench isolation process”, USA patent #5,880,004. [6] Ho, Michael, “Method of forming top corner rounding of shallow trenches in semiconductor substrate”, USA patent #5,858,857. [7] Ho, Ching-Yuan, Chen, Yung-Hsiang,“Method for manufacturing a semiconductor device, method for manufacturing magnetic memory, and the magnetic memory thereof”, USA patent#7,473,641. [8] Lee. Heng-Yuan,Ho. Ching-Yuan,Lee. Lurng-Shehng, Liang, Chieh-Shuo; “cylindrical capacitor ”, USA patent #20080094776 [9] Ho. Ching-Yuan, “Magnetic random access memory with reduced currents in a bit line and manufacturing method thereof”,USA patent# 20060097298 [10] Ho; Ching-Yuan,Fujita; Hirotake;Chiang, Po-Jui; “Method of fabrication device”, USA patent #20100093142 [11] Ho; Ching-Yuan,“Magnetic random access memory with reduced currents in a bit line and manufacturing method thereof”, USA patent#20060097298 [12] Ching-Yuan Ho, Chang-Chun Lee, “Method of Forming metal bump”, USA patent # 9,129957 B1 [13]Ching-Yuan Ho, Chang-Chun Lee, “Method of forming a metal bump”, US 9,129,957 B1
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著作 |
International Journal Papers(SCI)
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